设备介绍
滑道式PECVD系统由PT-1200T管式炉加热系统、真空系统、质量流量计供气系统、等离子射频电源系统组成。借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 该系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)、
石墨烯材料等。
产品优势
成品质量好
PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
沉积效果好
等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜
智能多段PID可编程
温控系统采用PID智能化程序控温，自整定功能并可编制多段升降温程序
技术参数
产品名称 滑道式PECVD系统
滑轨管式炉部分
产品型号 KJ-T1200-S6044-LK-Z
加热区长度 440mm(其他尺寸可根据客户需求定制)
炉管直径 直径60mm(其他尺寸可根据客户需求定制)
工作温度 ≦1100℃
最高温度 1200℃
测温元件 N型热电偶
温控系统 PID微电脑可编程自动控制
控温精度 ±1℃
温控保护 具有超温和断偶保护功能
升温速率 0-10℃/min
加热元件 电阻丝
滑轨设计 能实现快速升降温
炉膛材料 采用多晶纤维炉膛材料，材料保温性能好、反射率高、温场均衡
密封系统 该炉炉管与法兰之间采用O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好
炉 管 高纯石英管
法 兰 不锈钢法兰，方便拆卸，放取材料
真空系统部分
名称 高真空分子泵组
主要参数
真空泵极限真空度10-3 pa(包含KF25接口和可移动箱体)
气路系统部分
名称 四路质量流量计
气路 四路
流量控制 每路气体含有针阀单独控制
流量计 质量流量计
等离子电源系统
匹配功率范围 0-500W
工作频率 13.56MHZ+0.005%
控制模式 手动/自动
售后服务 质保一年，终身保修(耗材类：高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围)
330 
咨询底价
