设备介绍
六通道高真空PECVD系统是一款由1200度管式炉，等离子射频电源，分子泵高真空，六通道气路等组成的等离子化学气相沉积系统，加热腔体采用
氧化铝纤维制品，其极低的热导率和比热容，保证了炉膛的快速升温和低蓄热，特别适合于科研单位的材料工艺研究。该等离子化学沉积系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)、
石墨烯材料等。也可可应用于
纳米材料生长，石墨烯生成、金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜等各种薄膜等，可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。
产品优势
成品质量好
PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
沉积效果好
等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜
智能多段PID可编程
温控系统采用PID智能化程序控温，自整定功能并可编制多段升降温程序
技术参数
产品名称 六通道高真空PECVD系统
管式炉部分
产品型号 KJ-T1200-S60-6ZH-PE
炉管尺寸 Φ60mmX1400mm
(其他尺寸可根据客户需求定制)
炉管材质 石英管
加热区 400mm(其他尺寸可根据客户需求定制)
工作温度 ≤1100℃
最高温度 1200℃
温控方式 N型热电偶
控制方式 30段可编程序控温
控温精度 ±1℃
温控保护 具有超温和断偶保护功能
升温速率 建议≤10℃/min
加热元件 含钼电阻丝
炉膛材料 氧化铝多晶纤维
法兰接头 标配配有两个不锈钢真空法兰，已安装机械压力表和不锈钢截止阀
密封系统 该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好。
真空系统部分
名称 真空系统
主要参数 1.采用高真空分子泵组，极限真空度可达10-3pa
2.KF25快接，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰，
真空泵相连;
3.数字式真空显示，测量精度高
气路系统部分
名称 六路质量流量计
主要参数 六通道精密质量流量计：触屏控制，数字显示，自动控制。
进出气口：6进1出
流量控制：手动旋转式调节
等离子电源部分
名称 500W等离子电源
功率范围 0-500W(连续可调)
工作频率 13.56MHZ+0.005%
工作模式 连续输出
冷却方式 风冷
售后服务 质保一年，终身保修(耗材类：高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围)
更多规格可根据要求来定制
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