设备介绍
定制立式PECVD设备，由真空立式管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、真空测量系统组成。该系统以含钼电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用
氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，
真空泵接口，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 该系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)、
石墨烯材料等。
产品优势
沉积效果好
等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜
成品质量好
PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
沉积应力大小可调
可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小
技术参数
产品名称 定制PECVD设备
产品型号 KJ-PECVD-DZ
立式管式炉
炉膛模式 立式开启式
炉膛材料 高纯度氧化铝耐火纤维
加热元件 含钼加热丝
极限温度 1200℃
工作温度 ≤1100℃
升温速率 建议≤10℃/min
加热温区 单温区、多温区
温区长度 200mm、300mm、440可选
(其他尺寸可根据客户需求定制)
炉管材质 高纯石英
炉管直径 40mm/50mm/60mm/80mm/100mm/120mm/150mm可选
(其他尺寸可根据客户需求定制)
密封方式 304不锈钢真空法兰一套(含密封硅胶圈)
控制模式 触屏 30段智能PID程序控温 预留通讯接口
控温精度 ±1℃
温度曲线 多段"时间—温度曲线"任意可设
测温元件 N型热电偶
气路系统
气体通道 可同时连接多种气源
流 量 计 质量流量计
气路压力 -0.1～0.15 MPa
截止阀 不锈钢材质
气体连接管 1/4不锈钢管
等离子电源系统
功率范围 0-100W、0-300W 、0-500W ± 1%
冷却 风冷
数显真空计及连接件
数显真空计 数显真空计安装在不锈钢法兰上
真空泵组(相关连接配件)
真空泵 真空泵,及相应连接管件
汽化系统 ...
蠕动泵 精确度：+/- 0.5% FS
流量: 0 - 10 ml/min，可调，最小速率0.1ml/min
389 
咨询底价
