设备介绍
科佳高真空PECVD设备由管式炉、真空系统、气体供应系统、射频电源系统等组成。通过射频电源将石英真空室中的气体改变为离子状态，等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。该系统主要用于金属薄膜、陶瓷薄膜、复合薄膜、
石墨烯等的生长。
产品优势
更好的沉积效率
PECVD比普通CVD具有更高的化学气相沉积速率、更好的均匀性、一致性和稳定性
所需温度更低
PECVD对于化学气相沉积需要比普通CVD更低的温度
成品质量好
具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
技术参数
产品名称 摇臂式集成控制PECVD设备
产品型号 KJ-PECVD
第一部分滑轨管式炉部分
炉管尺寸 Φ25mmX1600mm(最终长度取决于最终设计)
炉管材料 石英管
加热区 200+200mm (双温区)
工作温度 ≤1100°C
最高温度 1200°C
温度控制方法 N型热电偶
控制方式 触摸屏控制，带独立摇臂，可根据实际需要调节温控屏角度，使用更方便
温度控制精度 ±1℃
温度控制保护 具有过热和烧毁保护功能
加热速率 建议≤10ºC/min，最大20ºC/min
加热元件 电阻丝
工作电压 交流220V单相50HZ/60HZ(电路电压用户可选择定制)
加热功率 4KW
炉膛结构 炉体有滑轨，可实现快速加热和冷却
真空法兰 标准配置配有两个不锈钢真空法兰，已安装机械压力表和不锈钢截止阀
密封系统 炉管和法兰采用硅胶O型圈挤压密封，拆卸方便，可反复拆卸，气密性好。
外壳 碳钢或不锈钢外壳
可选 辅助冷却风扇
第二部分真空系统部分
名称 真空系统
主要参数 1.采用中国品牌高真空分子泵组，极限真空度可达6.7x10-3pa(空冷状态)
2.KF25快速连接，不锈钢波纹管，手动挡板阀和法兰，
真空泵连接;
3、数字真空显示，测量范围为5×10-50-150mbar，测量精度高
第三部分供气系统部分
名称 四通质量流量计
主要参数 四通道精密质量流量计：触摸屏控制、数字显示、自动控制
1、流量范围：MFC 1-MFC3:10-1000sccm可调
MFC1:CH4 0-10sccm
MFC2:H2 0-200sccm
MFC3:0-200sccm
MFC4:0-300sccm
控制精度：±1.5%F.S。
2.一个混合罐
3.供气系统左侧安装4个不锈钢针阀，可手动控制4种气体;
4.进风口和出风口：4进1出
流量控制：LCD触摸屏
注：不支持液体或腐蚀气体。
第四部分等离子电源部分
名称 500W等离子电源
功率范围 0-500W(连续可调)
工作频率 13.56兆赫+0.05%
操作模式 连续输出
RF输出阻抗接口 N型，内螺纹(50Ω)
功率稳定性 ≤2W
最大反射功率 70W
电源保护设置 直流过流保护、功率放大器过温保护、反射功率保护
电源电压/频率 单相交流(187V-253V)50-60HZ
冷却法 空气冷却
306 
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