本发明公开了一种处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法，包括：将钨酸钠加入水中，搅拌溶解，然后加入还原剂，搅拌，加入盐酸溶液，再次搅拌，得到混合溶液，将混合溶液转移到高压反应釜中，然后在115～135℃下反应20～30小时，冷却至室温，沉淀经离心分离，用蒸馏水和无水乙醇洗涤数次；然后在真空烘箱中60～70℃下干燥24小时；将干燥后的固体在N
2气氛下，400～550℃煅烧2～6小时，冷却至室温，得到富含氧空位的氧化钨纳米片；由于W原子对γ射线的强烈散射，WO
3在放射性环境中仍保持晶体结构，这使得WO
3成为一种很有前途的处理放射性废水的光催化剂。氧空位的引入拓宽了对可见光的响应范围，增强了WO
3纳米片对U(VI)的吸附，从而提高了光催化活性。
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“处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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