本实用新型公开了一种等离子辅助化学气相沉积设备，其包括有化学气相沉积真空室，该化学气相沉积真空室通过法兰连接有真空系统，所述化学气相沉积真空室的两侧室壁各设有相对的能产生等离子体、且能通过调控磁铁分布调控磁场以改变等离子体强度与分布的可调式磁控等离子源平板电极，该等离子源平板电极连接有中频电源，所述化学气相沉积真空室顶部设有二维工件转台。使用本实用新型等离子辅助化学气相沉积设备进行的表面改性工艺不涉及任何废水的产生及排放，符合环保的生产原则。表面改性工艺可赋予样品表面附加功能，如防指纹、防雾、防静电等，提高产品的附加价值。
声明：
“等离子辅助化学气相沉积设备” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1053
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
