本发明涉及一种高延伸高抗拉添加剂及其制备方法和使用方法，属于电解
锂电
铜箔技术领域。本发明以含硫基团的化合物作为光亮剂，它能够形成亚铜配合物并吸附在铜沉积位点上，起催化促进沉积，从而在一定浓度内降低铜箔粗糙度，增大抗拉强度和延伸率；高抗剂中胺类有机物的存在可以促进阳离子在活性位点吸附，不饱和键增强吸附，增大阴极极化，从而使得在有对流的情况下，减小表面微观轮廓起伏，降低表面粗糙度，增大抗拉强度和延伸率；硫脲类衍生物也具有促进沉积的效果，降低铜箔表面粗糙度，增大抗拉强度和延伸率。
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“高延伸高抗拉添加剂及其制备方法和使用方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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