一种直流磁控溅射正极极片,是在金属基片上用直流磁控溅射技术沉淀一层
锂化合物和导电剂混合薄膜;基片为Al箔;
锂化合物为LiCoO2;导电剂为石墨或乙炔黑;其生产方法方法如下:1)将锂化合物、导电剂和粘结剂按重量比90∶5∶5-60∶20∶20的比例混合,冷等静压成型,在100-200℃惰性气氛中烘烤2-5小时;2)采用直流磁控溅射镀膜设备在基片上沉淀薄膜,所用气体为Ar气,镀膜室气压为0.1-10Pa,沉积电流为1-5mA/cm2,沉积时间为0.5-5小时;3)将所得
正极材料置入加热炉中,在空气气氛、200-800℃温度热处理1-8小时,得到成品。本发明直流磁控溅射正极极片,采用粉末粘结靶材,热处理温度较低,可低至200℃,降低了生产成本,采用直流磁控溅射设备,溅射电流和功率可连续调节,操作简单,工艺重复性好,适合工业化生产。
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来源：北方有色网
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