本发明公开了一种制备铌酸
锂表面图形的方法,该方法包括:在铌酸锂衬底表面制作掩膜图形;采用氟基等离子对铌酸锂衬底进行干法刻蚀,以刻蚀铌酸锂;采用氧等离子对铌酸锂衬底进行刻蚀,以刻蚀在铌酸锂表面形成的氟化锂;重复上述采用氟基等离子及氧等离子的刻蚀步骤,直至完成铌酸锂表面图形的制备。利用本发明,解决了氟基等离子刻蚀铌酸锂时表面再沉积氟化锂的问题,达到制备大深度、底面光滑铌酸锂表面图形的目的。本方法简单易用,可以用于铌酸锂的刻蚀,获得大深度、底面光滑的铌酸锂表面图形。
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来源：北方有色网
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