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气态镁还原制备钽粉的装置及方法

464 编辑：中冶有色网来源：黄安琪

2025-11-19 15:58:31

权利要求 1.一种气态镁还原制备钽粉的装置，其特征在于，包括：反应容器：用于设置原料镁块、氧化钽; 所述反应容器包括：反应塔盘，设置在炉体内部，用于放置氧化钽; 电阻丝，设置环绕于炉体外侧，用于形成均匀加热区; 镁源供给系统：用于通过加热使镁汽化形成气态镁源; 所述镁源供给系统包括：镁块放置区：设置于炉体底部，用于均匀放置镁块; 水冷保温盖：设置在炉体顶端的进料口处，防止盖体温度过高; 气路系统：设置在炉体底部，用于通入高纯氩气作为保护气; 温度传感器，设置在电加热井式炉内，用于监测反应时温度的变化。 2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述反应容器为圆柱形不锈钢炉体，内壁衬耐高温隔热材料氧化铝纤维毡。 3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述反应塔盘有多层，采用高纯钽片制成，均水平安置在炉中。 4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述电阻丝功率为5-8kW，最高耐温1200-1400℃。 5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述反应塔盘为3-5层，层间距相同。 6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述镁块放置区为圆柱形容器，内置孔径为4-6mm的多孔隔板。 7.一种采用权利要求1-6任一项所述装置的气态镁还原制备钽粉的方法，其特征在于，包括以下步骤：还原反应：将氧化钽均匀铺放于上层塔盘，镁块置于炉体底部，通入高纯氩气置换炉内空气4-8次，加热使镁汽化，在900-1200℃下充分反应; 后处理：反应产物经水冷仓冷却后，依次进行水洗、酸洗及真空干燥处理。 8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：所述氧化钽粉末铺放厚度为2-4mm，镁块与氧化钽的摩尔比为(5-8):1。 9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：所述氩气流量为 200-300mL/min，升温速率为5-10℃/min。 10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：所述还原反应包括：从室温以5-8℃/min的升温速率

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“气态镁还原制备钽粉的装置及方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。

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