设备介绍
此款多温区CVD系统是由多通道高精度的质量流量计、低真空机组以及1200度高温管式炉组成。该CVD化学沉积系统广泛应用在半导体、
纳米材料、
碳纤维、
石墨烯等
新材料、新工艺领域。
产品优势
PID程控技术
控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠
操作方便快捷
气路采用快速连接法兰结构,提高操作便捷性
稳定的真空系统
中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵
技术参数
产品名称 三温区CVD系统
产品型号 KJ-OTF-1200-80*220*3-F3
加热系统
显示 LED
最高温度 1200℃
工作温度 1100℃
升温速率 建议: 0~10℃/min
温区 3温区
每个区域的长度 220mm(其他尺寸可根据客户需求定制)
加热元件 钼电阻丝
热电偶 N型
温度控制精度 ±1℃
炉管尺寸/材质 80 x 1300mm (其他尺寸可根据客户需求定制)
材料：高纯度石英
温度控制 通过SCR功率控制的PID自动控制
加热过程 30步可编程
真空测量 复合数字真空计
真空法兰 带阀和针的不锈钢真空法兰
真空泵系统 冷态极限真空6.67*10-3Pa。真空泵总成(旋转叶片泵+扩散泵)
气路系统
高精度质量流量计 3气路Ar、N2、C2H4气体
流量范围 可选(20、30、50、100、200、300、500)SCCM
工作压力差范围 0.1~0.5MPa
耐压性 3MPa
温度系数 零点：≤±0.2%F.S./℃;量程：≤±0.2%F.S./℃
工作环境温度 5~45℃
309 
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