设备介绍
该高温CVD管式炉工作温度为300℃至1600℃，配备
真空泵，气体混合装置。采用温度控制系统，高温精度，出色的气体流量精度，易于操作，出色的隔热效果和温度均匀性。本系列CVD化学沉积系统主要用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。适用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
产品优势
智能温控
可控硅自动控温，移相触发，30段可编程PID智能控制
安全防烫
双层炉壳结构，装有风冷系统用于降低壳体表面温度，保证了操作人员的安全。
结构合理
304不锈钢双层密封法兰，两端可调节法兰支撑结构，延长炉管使用寿命
超温保护及预警
过热和断偶保护，超温保护蜂鸣器警报
耐腐蚀石英管
炉管采用高纯石英，耐高温耐酸碱，透明炉管可更好观察样品反应情况
技术参数
产品名称 高温CVD系统
产品型号 KJ-T1600
结构 碳钢外壳
1600度氧化铝纤维板
1800度氧化铝纤维板
冷却风扇
炉管 刚玉管OD.80mm×Len.1000-1200mm
外径80mmx长度1000-1200mm
(其他尺寸可按客户需求定制)
密封 带胶圈法兰(带有指针式压力表)
加热区长度 440mm (其他尺寸可按客户需求定制)
工作温度 ≤1600℃
温度传感器 B型热电偶
温度控制 可控硅自动控温
移相触发
30段可编程PID智能控制，过热和断偶保护
超温保护蜂鸣器警报
加热速率 建议：≤10℃/min
控温精度 +/-1℃
加热元件 硅钼棒
真空计
显示 数字显示
带测量单位Torr
真空泵
极限真空度 3pa
317 
咨询底价
