阵列式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一种高效、大面积的化学气相沉积设备，通过等离子体激活反应气体，在低温下实现高质量薄膜的快速沉积。
三个真空室共用二套真空机组。沉积室的样品台可加热、可升降。
本套系统的三个沉积室采用圆柱形(φ430*456)立式安装全封闭结构，门上带观察窗;整套机组所用主要器件有插板阀五个(连接几个沉积室的插板阀为CF150的二个，其余三个CF150插板阀连接分子泵)。分子泵三台(600L/S)、机械泵三台(4L/S)，可升降、带加热样品台三套、样品传递机构一套，其中二个CF150插板阀是三个真空室之间传递样品用的。
电控方面主要器件有;电控柜两台、PLC程控机一台、样品台加热电源三台、真空计四台、流量显示仪2台及其它各种电器配件等等。
系统构成包括沉积室(P、N、I室)、气路控制系统、电控系统、安全保护报警系统等部分。
抽真空时间：沉积室;40分钟达5x10-4 Pa，
设备总体漏率;停机12小时后≤ 5Pa。
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