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阵列式等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD）

546

规格/型号：暂无

品牌：科诚

应用领域：材料制备

产地：辽宁 - 沈阳

厂家/供应商：沈阳科诚真空技术有限公司

咨询电话:：13998121527（请说明信息源自“中冶有色网”）

更新时间：2025-03-28

级别：待认证

阵列式等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD）说明介绍

阵列式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一种高效、大面积的化学气相沉积设备，通过等离子体激活反应气体，在低温下实现高质量薄膜的快速沉积。

三个真空室共用二套真空机组。沉积室的样品台可加热、可升降。

本套系统的三个沉积室采用圆柱形(φ430*456)立式安装全封闭结构，门上带观察窗;整套机组所用主要器件有插板阀五个(连接几个沉积室的插板阀为CF150的二个，其余三个CF150插板阀连接分子泵)。分子泵三台(600L/S)、机械泵三台(4L/S)，可升降、带加热样品台三套、样品传递机构一套，其中二个CF150插板阀是三个真空室之间传递样品用的。

电控方面主要器件有;电控柜两台、PLC程控机一台、样品台加热电源三台、真空计四台、流量显示仪2台及其它各种电器配件等等。

系统构成包括沉积室(P、N、I室)、气路控制系统、电控系统、安全保护报警系统等部分。

抽真空时间：沉积室;40分钟达5x10-4 Pa，

设备总体漏率;停机12小时后≤ 5Pa。