设备介绍
PECVD等离子气相沉积设备是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜, 该系统主要用于金属粉末镀膜。
产品优势
气密性好
炉管与法兰之间采用O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好
温场均衡
采用多晶纤维炉膛材料，材料保温性能好、反射率高、温场均衡
可倾斜可旋转
炉体可倾斜，炉管可正、反转且转速可调，使物料动态加热，受热更均匀、和所通气体可充分接触反应
技术参数
产品名称 管式PECVD等离子气相沉积系统(CE认证)
旋转管式炉部分
产品型号 KJ-T1200
加热区长度 660mm(220+220+220mm三温区)
(其他尺寸可根据客户需求定制)
炉管材质 高纯石英管(变径管)
炉管尺寸 变径管
两端尺寸OD:80mm* 400mm
中间尺寸OD:150mm* 400mm
总长1200mm 炉管中间部分焊接扬料板
(其他尺寸可根据客户需求定制)
工作温度 ≦1100℃
最高温度 1200℃
测温元件 3支N型热电偶分别控温
温控系统 触屏显示，16段可储藏曲线，30段PID微电脑可编程自动控制，能储存和拷贝数据
保温温控精度 ±1℃
温控保护 具有超温和断偶保护功能
升温速率 建议0-10℃/min
加热元件 合金电阻丝
密封系统 该炉炉管与法兰之间采用O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好
法 兰 水冷密封法兰，已安装机械压力表和不锈钢截止阀，方便拆卸，放取材料
倾斜结构 可倾斜倾斜角0-15°(倾斜角可调)方便进出料
旋转结构 可 360 度旋转，
转速0-15转(速度可调)
材料在炉膛内均匀受热
真空系统部分
名称 分子泵组：
旋片泵+分子泵
主要参数 极限真空度6.7*10-3Pa(包含KF25接口、真空挡板阀和可移动箱体)
真空显示 实时显示真空度
旋转密封 磁流体密封，保证旋转过程中还能抽真空
气路系统部分
名称 三路质量流量计
气路 三路
流量控制 液晶触摸屏控制，数字显示
进出气口 三进一出，内置精密混气罐
等离子射频器部分
名称 射频自动匹配器
匹配功率范围 0-500W
工作频率 13.56MHZ+0.005%
控制模式 手动/自动
308 
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