设备介绍
PECVD旋转管式炉系统适用于粉体材料的表面薄膜沉积。系统由高功率射频电源(500W，13.56MHz)、真空系统、旋转管式炉组成。该设备是为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，环境温度在100-300℃，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化，从而大大提高了反应物的活性，这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜，因此这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法。PECVD淀积的薄膜具有良好的电学性能、良好的衬底附着性以及非常好的台阶覆盖性，正由于这些优点使其在大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。
产品优势
成品质量好
PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
炉管可旋转
炉管采用定制变径炉管，管壁内带有石英拨料台，让物料受热更充分。炉管360℃旋转，旋转速度可调
可通保护气氛
法兰上带有进出气旋转接头，可以通入氮气、氩气等惰性保护气体，可在气氛环境下使用
安全防护功能
安全防护，具有超温保护功能，当温度超过允许设定值后，自动报警保护功能，操作安全可靠
沉积效果好
等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜
智能多段PID可编程
温控系统采用PID智能化程序控温，自整定功能并可编制多段升降温程序
技术参数
产品名称 PE旋转管式炉
产品型号 KJ-TX1100-S50LK1
炉管尺寸 两端直径约Φ30mm，中间尺寸Φ50mm 总长约1200mm
(其他尺寸可根据客户需求定制)
加热区 200mm(其他尺寸可根据客户需求定制)
炉管材质 石英炉管
工作温度 ≤1000℃
最高温度 1100℃
加热元件 合金加热丝
控温精度 ±1℃
加热速率 建议10℃/min，可根据实验工艺进行调节
温度测试元件 N型热电偶
控温系统 采用智能化多段PID可编程控制
温度控制系统采用人工智能调节技术，具有 PID 调节、自整定功能并可编制多段升降温程序;
1、采用PID 方式调节控温，可设置多段升降温程序
2、控温精度±1ºC
3、具有过温保护 断偶保护过温或断偶时电炉加热电路自动切断
4、仪表具有温度自整定的功能
密封方式 采用磁流体和真空法兰的密封方式，密封效果更好
旋转速率 15rpm/min 可调
旋转结构 旋转方式，炉管可以360℃旋转，炉体可倾斜
真空系统 1、采用旋片
真空泵,冷态极限真空度可达10Pa，真空泵含粉尘过滤器
2、KF快接，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰，真空泵相连;
3、数显真空计显示
等离子电源系统 功率范围 0-500W(连续可调)
工作频率 13.56MHZ+0.005%
工作模式 连续输出
冷却方式 风冷
售后服务 12个月质保、终身保修(加热元件、炉管等随机赠送配件不属于质保范围)
注意事项 炉管内气压不可高于0.02MPa
· 由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，使用时会更加精确安全
· 当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态
· 进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
· 石英管的长时间使用温度<1100℃
不得通入氯化物、硫化物等易腐蚀性气体，易造成法兰等不锈钢件的损坏
对于样品加热的实验
不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。
若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数
若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生(如炉管破裂，法兰飞出等)
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