设备介绍
此款CVD气相沉积系统的工作温度为300℃至1200℃，配备
真空泵，气体混合装置。采用了温度控制系统，高温精度，出色的气体流量精度，易于操作，有非常好的隔热效果和温度均匀性。该CVD管式炉适用于CVD工艺，如
碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
产品优势
智能控温
智能PID控制，具有多段可编程控温和自整定功能，多段"时间—温度曲线"任意可设
气密性好
可重复拆装的不锈钢密封法兰。拆装方便，密封性好，可抽真空通多种气氛
上开启式结构
双层壳体上开启结构，取放炉管方便，装有风冷系统,炉子外壳温度保持安全范围内
技术参数
产品名称 化学气相沉积系统
产品型号 KJ-TCVD1200-S80LK1
管式炉部分
炉膛模式 开启式
显示模式 LED
加热元件 合金电阻丝
极限温度 1200℃
工作温度 ≤1100℃
升温速率 0-10℃/min
加热温区 单温区
温区长度 440mm(其他尺寸可按客户需求定制)
炉管材质 高纯石英
炉管外径 80mm(其他尺寸可按客户需求定制)
炉管长度约 1000mm(其他尺寸可按客户需求定制)
密封方式 可重复拆装的不锈钢密封法兰。拆装方便，密封性好
控制模式 智能PID控制，具有多段可编程控温和自整定功能
温度曲线 多段"时间—温度曲线"任意可设
报警：有超温和断偶报警
测温元件 N型热电偶
供气系统
流 量 计 三路质量流量计(量程可根据需要选择)
A路量程 氮气 0～1000SCCM
B路量程 甲烷 0～500SCCM
C路量程 乙烯 0～1000SCCM
混气 内含一个精密混气罐
工作环境温度 5℃-45℃
真空系统(含不锈钢波纹管和相关连接配件)
真空泵抽速 2L/S抽速的机械旋片泵、波纹管及相关连接件，极限真空可实现10pa
数显真空计 数显电阻真空计集成在可移动供气系统箱体上
测量路数 1路
显示方式 LED数字显示
400 
咨询底价
