本发明提供一种半导体清洗设备，包括本体和设置在本体中的化学液槽、水槽、化学液排放管、水排放管、清洗液配给组件和液体检测部件，化学液槽和水槽分别用于对晶片进行化学清洗和水洗，清洗液配给组件分别与化学液槽和水槽连通，用于分别向化学液槽和水槽输送化学液体和水；化学液排放管一端与化学液槽连通，另一端贯穿本体延伸至本体外部，用于使化学液槽中的化学液体排放至本体外部，水排放管一端与水槽连通，另一端贯穿本体延伸至本体外部，用于使水槽中的水排放至本体外部，液体检测部件用于对泄漏至本体中的液体进行检测。本发明提供的半导体清洗设备能够降低本体漏液现象发生的概率，从而降低安全事故发生的概率，提高使用安全性。
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来源：北方有色网
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