本发明公开了一种用于超低轮廓
铜箔及其覆铜板制备的化学沉积方法，包括以下步骤：对基材表面预处理，基材表面活化处理：将活化溶液均匀铺展于预处理后的基材表面，加热处理，在基材上得到活化层，进行一次或重复多次以下步骤，得到覆铜板：将铜前驱体溶液水平铺展在活化层的表面，加热处理。采用本发明公开的制备方法与工艺技术，可以流水线方式连续、高效地生产超低轮廓的铜箔或覆有超低轮廓铜箔的覆铜板，相应流程模式的建立，将两种产品的生产过程合二为一，显著降低了投资成本，可极大提高企业经济效益。同时，采用薄层溶液方式实施的化学沉积模式，避免了大量工业废水的产生与排放，有利于可持续发展与环境保护。
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“用于超低轮廓铜箔及其覆铜板制备的化学沉积方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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