本发明公开了粒子的均质膜涂层。将均质膜涂层施加至组件的组成粒子的方法包括将靶元件设置在溅射室中。该方法还包括将容器布置在溅射室中。该方法另外包括将组成粒子布置在容器上。该方法还包括通过高能粒子轰击靶元件以便从靶元件喷射材料并将该材料沉积到组成粒子上。该方法进一步包括在轰击过程中搅动容器以便将材料作为均质膜涂层施加至组成粒子。该方法可用于将均质薄膜涂层施加至用于
锂‑硫电池中的硫阴极的硫灌注组成粒子。
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来源：北方有色网
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