本发明属于材料合成技术领域，公开了一种氮掺杂中空四氧化三
钴及其制备方法和应用，该氮掺杂中空
四氧化三钴的化学式为Co3O4‑COF‑T‑D@C‑N；COF‑T‑D为共价有机框架。本发明的氮掺杂中空四氧化三钴因其具有开放的中空结构使得本身的比表面积大，从而与
电解液的接触面积大，
锂离子在其中的运输过程更容易，开放的中空结构还使得充放电过程中不会产生体积效应，并引入氮进行掺杂，能逐渐活化颗粒增加比表面积和活性位点，材料放电(循环)稳定性提高，材料倍率性能提升。
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“氮掺杂中空四氧化三钴及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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