本发明提供了一种用于
芯片成膜的高纯五(二甲基氨基)钽的制备方法，属于化学合成技术领域。本发明首先将TaCl5在有机溶剂中与5倍的二甲胺反应，在钽金属原子上引入2个‑NMe2基团，形成二(二甲基氨基)三氯化钽，然后将二(二甲基氨基)三氯化钽与3倍量的二甲基氨基
锂反应得到五(二甲基氨基)钽。本发明的制备方法中减少了正丁基锂的用量，降低了制造成本；且通过氮气保护的离心工艺分离产品及副产物，解决了不易分离的问题，同时减少了溶剂的用量，降低了由于多次洗涤造成产品与空气和水汽的接触频次，降低了生产成本，提高产品纯度。
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“用于芯片成膜的高纯五（二甲基氨基）钽的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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