本发明涉及
锂电池领域，公开了一种用于负极补锂的锂膜及其制备装置、制备方法和应用。本发明所述锂膜包括基膜和锂层，所述锂层厚度为1‑10μm；所述基膜厚度6‑20μm，通过本发明提到的制备锂膜的装置及方法制备，同时还提出了一种在负极应用本发明所述锂膜的锂电池。本发明的锂膜具有厚度均匀，易于生产，基膜循环利用的特点；锂膜制备过程中可以通过对电压、注射泵的推进速率、溶剂的选择、喷头喷射液剂的时间等控制锂层的均匀性与厚度，调控锂层表面形貌；同时本发明提到的制备方法还能解决现有锂膜均匀性差，精度难以控制且局部富余锂残留带来后续负极卷制过程中的安全隐患问题等。
声明：
“用于负极补锂的锂膜及其制备装置、制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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编辑：管理员
来源：北方有色网
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