本发明公开了一种(200)晶面暴露单分散CuO纳米片的合成方法，工艺如下：首先将可溶性
铜盐、络合剂和碱源一起溶解在去离子水中得到溶液A；然后在溶液A中加入离子液体得到溶液B；将溶液B进行水热合成反应，洗涤烘干后得到(200)晶面暴露的单分散CuO纳米片。本发明的优点是：(1)合成方法简单，反应条件可控性强，具有很高的实用性；(2)利用离子液体有效地控制产品的形貌和暴露晶面，且离子液体可回收，降低成本；(3)产品为具有单晶结构的单斜CuO，无其他杂质产物生成，无需进行纯化处理；(4)产品具有良好的单分散性和结晶性，在光电材料、气敏材料、
新能源材料和环境治理等领域具有潜在的应用价值。
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“（200）晶面暴露单分散CuO纳米片的合成方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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