本发明公开了一种Cu‑Ta合金及其制备方法，Cu‑Ta合金由以下成分组成，Ta原子百分比1.0～35.0，其余为Cu。制备方法具体步骤如下：步骤1：首先对硅基体表面进行超声清洗并烘干；步骤2：将基盘送入磁控溅射镀膜室抽真空；步骤3：采用直流电源共溅射制备Cu‑Ta合金；步骤4：待样品在真空室充分冷却后退出。本发明能够避免材料中合金元素分布不均匀的出现，根据成分不同，所得合金为纳米晶与非晶的
复合材料，有效改善了合金材料的综合力学性能。
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来源：北方有色网
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