本发明公开了本发明涉及一种真空电子束镀膜的方法，属于镀膜技术领域。本发明要解决的技术问题是提供一种成本低、无污染、高效率、高质量的镀厚膜的方法，该方法采用真空电子束镀膜，包括：将镀膜金属置入真空电子束镀膜装置中，以铁基材料为基底材料，将基底材料温度加热至400～1200℃，设置电子束功率不小于20KW，控制电子束炉工作腔真空度为10～10
‑3Pa，进行镀膜，镀膜完成，冷却至不超过300℃，得镀膜
复合材料。本发明方法可获得镀膜厚度大、耐腐蚀的镀膜复合材料，具有低成本、无污染、速度快和高效率的特点。
声明：
“真空电子束镀膜的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1097
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
