室温氧化
石墨烯/酞菁
复合材料氨敏元件及其制备方法，它涉及一种氨敏元件及其制备方法。本发明是为了解决氧化石墨烯氨敏元件可逆性与选择性较差和金属酞菁为氨敏材料的气敏元件电阻值较高的技术问题。本方法如下：一、制备氧化石墨烯/酞菁复合氨敏材料；二、制备氧化石墨烯/酞菁复合材料气敏元件。本发明制备的室温氧化石墨烯/酞菁复合材料氨敏元件，室温下，在12.5ppm-3200ppmNH3浓度范围内具有较好的响应，而在较低浓度NH3范围内NH3浓度与响应间具有良好的线性关系，在不同浓度氨气中都具有良好的灵敏度、可逆性、稳定性。本发明属于气敏元件的制备领域。
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“室温氧化石墨烯/酞菁复合材料氨敏元件及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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