本发明属
功能材料制备技术领域，涉及一种基于双重连续印迹体系制备仿生MOFs基双层分子印迹纳米复合膜的制备方法；步骤为：首先合成UiO‑66颗粒，利用多巴胺自聚‑复合印迹技术，以四环素为模板分子，制备聚多巴胺基印迹UiO‑66，并将其用作膜负载材料，结合相转化手段制备UiO‑66基纳米复合印迹膜；最后以四环素为模板分子，氨丙基三乙氧基
硅烷和正硅酸四乙酯为功能单体和交联剂，基于溶胶凝胶印迹方法，制备得到仿生MOFs基双层分子印迹纳米复合膜；本发明制备的复合膜解决了现有四环素分子印迹聚合物所存在的难回收、易产生二次污染等不足，并拓宽膜分离材料的应用领域。
声明：
“基于双重连续印迹体系制备仿生MOFs基双层分子印迹纳米复合膜的制备方法及其用途” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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