本发明实施例提供了一种基于缓冲层进行深刻蚀的掩蔽方法，该方法包括：在衬底上形成
功能材料层；在所述功能材料层上形成缓冲层；在所述缓冲层上涂敷一层抗蚀剂材料；对所述抗蚀剂材料进行平面曝光，在所述抗蚀剂材料上形成预设的微结构图形；将抗蚀剂材料上的微结构图形转移到所述缓冲层上；将缓冲层上的微结构图形深刻蚀到所述功能材料层上；去除抗蚀剂材料和缓冲层，获得具有微结构图形的功能材料。通过增加缓冲层保证对功能材料进行深刻蚀的质量。
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“基于缓冲层进行深刻蚀的掩蔽方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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