全部
▼
496
工作原理
设备采用双盘对称布局设计，每个研磨盘配备独立驱动电机与变频调速系统，可实现0-1500rpm无级变速，适应不同材料与工艺要求。研磨过程中，样品通过磁性吸盘或真空吸附固定于载物台，通过升降机构调节压力与接触面积；双盘可分别搭载不同粒度磨料（如碳化硅、金刚石抛光布），配合冷却液循环系统，有效控制研磨温度，避免样品过热变形或组织损伤，确保表面处理一致性。
应用范围
覆盖材料表面处理全流程：
金相制样：快速去除金属材料切割痕迹，为后续显微观察提供平整表面；
陶瓷加工：实现氧化铝、氮化硅等脆性材料的高精度抛光，满足透光性检测需求；
半导体制造：对硅片、化合物半导体进行减薄与镜面抛光，提升器件性能；
失效分析：修复断裂件表面损伤，还原原始缺陷特征，辅助事故溯源。
技术参数
设备双研磨盘直径250mm，载物台尺寸200×200mm，支持X/Y轴手动微调（行程50mm）；主轴电机功率1.5kW×2，转速范围0-1500rpm连续可调；配备冷却液喷淋系统，流量0-10L/min可调；整机尺寸800×700×900mm，重量约280kg，电源AC380V±10%。
产品特点
双盘独立控制技术可同步完成粗磨与精抛，加工效率提升50%；变频调速系统适配不同硬度材料，避免低速抖动或高速飞溅；防溅罩与集液槽设计减少冷却液外溢，保障操作环境清洁；模块化结构支持快速更换研磨盘与载物台，兼容平面、曲面样品处理，是材料表面处理领域高效、灵活的解决方案。
咨询底价
