高真空溅射镀膜仪 Leica EM SCD500
Leica EM SCD500高真空溅射镀膜仪是一款无油高真空系统，专为FE-SEM观察前的样品镀膜、TEM/EDX喷涂以及多层膜样品制备设计。它具备多种功能，包括金属溅射镀膜、辉光放电、蚀刻（样品清洁）、碳丝蒸发镀膜、碳棒蒸发镀膜、金属热阻蒸发镀膜，还可选配液氮冷台（适配EM VCT100）。设备配备金属靶档板，适用于特殊溅射靶材的预溅射，确保镀膜纯度。可选配石英膜厚监控器，实现程序化控制膜厚并反馈镀膜仪。样品室尺寸有标配Ø106mm和选配Ø205mm（可容纳wafer 152mm/6"圆形或127mm/5"方形）两种规格。操作简单，带有LED指示，机身印有操作说明。
无油高真空系统，适合FE-SEM观察前样品镀膜机TEM/EDX喷涂要求；也可应用于制备多层膜样品
*功能：金属溅射镀膜/辉光放电/蚀刻（样品清洁）/碳丝蒸发镀膜/碳棒蒸发镀膜/金属热阻蒸发镀膜/加装液氮冷台（适配EM VCT100)
*带有金属靶档板，适用于特殊溅射靶材的预溅射，确保镀膜纯度
*可选配石英膜厚监控器，可程序化控制膜厚，并反馈镀膜仪
*样品室尺寸：标配Ø106mm,选配Ø205mm（可容纳wafer 152mm/6"圆形或127mm/5"方形）
*操作简单，带有LED指示，机身印有操作说明
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