真空热蒸发镀膜系统是一种常见的物理气相沉积(PVD)技术，通过加热蒸发材料使其在真空环境中气化，随后凝结在基片表面形成薄膜。
蒸发源共14套，其中10套为温控有机蒸发源，4套为金属电流控制蒸发源。采用全封闭结构彻底杜绝了交叉污染，为本公司专利产品。
样品台具有旋转、升降、加热(最高200℃)功能，可在线更换掩膜板一次，掩模板与样品无间隙贴合，可同时装载25mm×25mm样品四块(此技术为本公司专利)，每个样品还有独立的挡板，通过机械手在线控制挡板的开关。
1、供电：～380V三相供电系统(容量10KW)，冷却水循环量0.3M3/H，工作环境温度10℃～40℃，冷却水温度15℃～20℃。
2、设备极限真空：5×10-5Pa;漏率：7×10-8Pa·L/S;工作真空：6×10-4Pa;恢复工作真空时间小于40分钟(充干燥氮气)。
3、基片转速：5～30转/分连续可调。
4、基片尺寸≤25.4x25.4(mm)。
5、设备安装面积2.Mx3M。
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