多功能蒸镀设备(Multi-functional Deposition System)是集成了多种PVD技术(如热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射等)的复合型镀膜设备，通常具备：
模块化真空腔体设计
多类型蒸发源/溅射靶兼容
基片多自由度运动系统
实时膜厚监测能力
辅助离子源/加热装置
技术指标：
1. 真空室的极限真空度达5*10-5pa，漏率为关机12小时≤5pa
2. 真空腔内配有集约样品台一套，配有大挡板和16套小挡板，手动控制，开关方便快捷，每个小挡板挡两块30*30mm样片
3. 蒸发源共14套，其中10套有机蒸发源，4套金属蒸发源。控温精度±1℃，可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能
4.金属蒸发源配4台一带一1000W可控硅调压电源，通过
铜电极连接，两端可夹钨绞丝或者钽舟，钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒材料，钽舟可以蒸镀粉末状材料，蒸发源采用陶瓷全密封，避免交叉污染
5. 有机蒸发源配10台一带一温控电源，有机源温度为室温-500度，可以根据材料及用户需求自行调节
6. 样品台具有旋转、升降功能，可在线更换掩膜板一次，可同时装载30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板，并且通过PLC控制步进电机对每个小挡板做16个定位，使机械手推拉小挡板，样品与蒸发源之间的间距为200-300mm
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