高真空多源热蒸发设备是一种基于电阻加热原理的物理气相沉积(PVD)设备，通过多个独立可控蒸发源(通常2-14个)，在高真空环境(10⁻⁴~10⁻⁶ Pa)下实现：
单质/合金薄膜的共蒸
多层复合结构沉积
梯度成分材料制备
真空：极限真空6*10 -5 帕
工作真空6*10 -4 帕
恢复工作真空时间：连接手套箱≤10分钟
不连接手套箱，充干燥氮气≤30分钟
本套设备配有8个有机源及2个金属源
金属蒸发源和有机蒸发源可按客户要求配置
膜厚探头及膜厚仪有国产或者进口可选
金属蒸发源配有1000w电源
有机蒸发源配有可控温电源，控温精度±1℃
433 
咨询底价
