高真空多功能真空镀膜机是一种集成了多种镀膜技术(如热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、离子镀等)的先进设备，能够在高真空环境下实现不同类型的薄膜沉积，满足科研与工业中对复杂薄膜的需求。
设备的主要配置：
1、真空室二个，一个有8个蒸发源(有机材料)，另一个有4个蒸发源(金属材料)。
2、四个源的真空室(金属材料)附加一个手套箱，这种附加方法不但可使蒸发好的基片在此取出、而且还可使蒸发材料在保护气体的环境下放入蒸发源。
3、样品在两个真空室之间进行传递，传递方式为轨道及轨道车电控传递。
4、每次可对四块样品进行蒸镀，并可在线掩膜两次(20mm×30mm)。
5、对样品采用典钨灯加热，自动控温。(最高200℃、精度±1℃)
6、金属蒸发源采用钨绞丝。
7、由于蒸发源比较多，又不能给每个蒸发源都配上电源，所以给每个真空室的蒸发源都加装电源转换装置一套，电控转换操作方便。
8、样品台二套(可电控升降、旋转及定位交接和掩膜换位)。
9、有机室上盖开启系统一套(电动控制)。
10、PLC微机控制系统一套。
11、样品由有机蒸发室传递到金属蒸发室、至手套箱采用轨道式自动交接(由触摸屏控制)。
12、恢复工作真空时间短，从大气到工作真空(7×10-4Pa)时间30～40分钟(暴露大气前充干燥氮气)。
13、超高真空密封主要采用如下技术：玻璃金属焊接技术、陶瓷金属焊接技术、刀口无氧
铜金属密封技术等，整机主要采用金属密封技术，前开门用氟胶圈，真空管路用不锈钢金属波纹管路(不用橡胶管路)，采用超高真空阀门。
14. 运动部件的密封，采用磁力耦合及金属波纹管密封技术。
15. 真空规用金属规，密封口用刀口金属密封结构。
设备工作技术指标：
1、设备极限真空度6×10-5Pa，工作真空度5×10-4Pa。
2、设备整体漏率：关机停泵12小时后，真空度≤10pa
3、 样品台加热温度室温至200度，可调，控温温度±1度
4、 冷却水循环量150L/h。
5、 电源：交流三相五线制380V，总功率20KVA。
6、 环境温度10℃～30℃。
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