Desk V 薄膜沉积解决方案
简介
Desk V样品制备系统配制用于蒸发和溅射，是一种高生产率的解决方案，可提供卓越、一致和高度可重复的结果。
Desk V镀膜系统提供两种版本：Desk V HP和Desk V TSC。Desk V TSC，是涡轮分子泵溅射镀膜机选项，专为高分辨率显微镜样品设计，适用于氧化和非氧化金属。Desk V磁控溅射装置精确沉积导电镀膜，其热蒸发选项可以沉积薄碳层(使用棒材或纱线)。
用途：
SEM样品制备（溅射和碳蒸发） TEM样品制备（碳蒸发） X射线微量分析样品制备（碳蒸发） 高分辨率样品制备
半导体 地质学 法医学 材料科学 药物 生命科学
优势：
Desk V可沉积各种各样的镀膜材料（包括铱），而可调节的旋转和倾斜台确保镀膜高度均匀，并具备较为佳的一致性和覆盖性，即使在表面高度不规则的样品上也是如此。 Desk V包括易于更换的插入式绝缘旋转样品台，其即插即用风格可使您迅速上手使用。
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