本实用新型涉及化工反应设备技术领域，尤其是一种化学气相沉积陶瓷保护膜反应装置，包括CH4储存罐、H2储存罐、蒸发器、CVD反应室和真空抽气泵, CH4储存罐和H2储存罐上均连接有支管，支管上且位于阀门的上方均设有流量计，支管另一端均连接有主管道，主管道上设有压力表和气体
检测仪，主管道另一端连接有蒸发器，述蒸发器上通过设有的出气管道连接有CVD反应室，CVD反应室两侧均设有高温炉，CVD反应室底端通过抽气管道连接有真空抽气泵，有益效果在于：通过气相化学反应形成固体物质沉积，不易受到外部环境影响；真空条件下进行沉积，提高获得沉积物效率，通过控制反应气体流量，从而控制涂层的密度，通过调节反应室内的真空压力从而有效控制涂层纯度。
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来源：北方有色网
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