本发明公开了用于热控制光刻化学工艺的系统、装置和方法。热控制系统包括包含多个热传感器元件的多区带热感应单元。这些热元件被配置用于检测衬底上多个预定义区带的温度。该系统还包括包含多个热耦元件的多区带热调整单元,这些热耦元件被配置用于调整预定义区带的温度。该系统还包括可操作地并且可通信地耦合到多区带热感应单元和多区带热调整单元的热控制器单元。热控制器单元接收来自多区带热感应单元的检测温度,处理所检测的温度信息,基于经处理的温度信息生成温度控制信息,并将温度控制信息传输到多区带热调整单元以调整预定义区带的温度。
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“光刻化学工艺的自适应性热控制” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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