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化学机械研磨设备及其滑片侦测方法

1256   编辑：管理员   来源：北方有色网  
2023-03-19 06:47:30
一种化学机械研磨设备及其滑片侦测方法，所述化学机械研磨设备包括：研磨盘，用于固定研磨垫；研磨头，位于所述研磨盘上方，用于固定晶圆；传感器，固定于所述研磨头外壁上，且所述传感器的检测窗口朝向所述研磨盘；喷气单元，固定设置于所述研磨盘一侧，用于向所述传感器喷气。所述化学机械研磨设备的滑片侦测效果提高。
声明：
“化学机械研磨设备及其滑片侦测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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