本发明公开了一种单晶硅外延片生产用废气处理系统，包括储气罐、吸附池、燃烧室、暂存罐和分离罐，储气罐的侧壁上连接有排废管和排气管，排气管上连接有曝气管，且曝气管置于吸附池内，吸附池内装有用于吸附氨气的溶液，吸附池连接有氨气提纯装置，吸附池上设有燃烧室，储气罐安装有与燃烧室连通的液体过滤装置，吸附池内还设有伸入燃烧室的氢气传送管，燃烧室一侧依次连接有暂存罐和分离罐，分离罐内设有
过滤机构。本发明可提高氨气回收的纯度，通过燃烧室可燃烧多余的氢气，利用氢气提高燃烧室的温度，同时利用高温燃烧三甲基镓，使三甲基镓燃烧，然后对燃烧后的气体进行处理，以防止三甲基镓直接排放造成的危害。
声明：
“一种单晶硅外延片生产用废气处理系统” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1295
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
