本发明公开了一种燃烧水洗式半导体废气处理装置，包括：燃烧冷却单元、储液槽及填料洗涤塔；所述燃烧冷却单元用于处理废气，使得废气高温氧化分解产生酸性气体和中性气体；所述储液槽用于吸收部分酸性气体，并排出废气中的固体颗粒；所述填料洗涤塔用于吸收剩余的酸性气体，并排出中性气体；本发明利用甲烷及空气燃烧产生的高温燃烧使废气在高温条件下氧化分解，产生的水溶性高温酸性气体通过冷却塔冷却后，部分酸性气体进入到储液槽进行碱洗中和吸收，同时使废气中夹杂的固体颗粒在储液槽中沉降；剩余的酸性气体进入填料洗涤塔吸收完全，最终使CVD设备产生的废气去除率达到95％以上，基本满足排放到工厂排气管道的要求。
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来源：北方有色网
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