本发明内容提供了一种
硅烷功能化剥层水滑石及其制备方法和应用，所述的硅烷功能化剥层水滑石是用N–(β–氨乙基)–γ–氨丙基三乙氧基硅烷（简写为KH–791）对剥层水滑石进行功能化修饰，其中KH–791与剥层水滑石单层板表面上的羟基通过Si–O–M（M代表水滑石上的金属离子）键相链接。该材料对Cr3+、Mn2+、Fe2+、Co2+、Ni2+、Cu2+、Zn2+和Pb2+等过渡金属离子具有吸附性能，可用于工业废水中对这些过渡金属离子的去除。本发明提供的制备方法原料易得、操作简便、对设备要求低和安全性高。
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“硅烷功能化剥层水滑石及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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