本实用新型是半导体行业低浓度含
铜废水达标排放及高效沉降成套装置，其结构包括通过管道依次连接的第一、二、三、四、五反应池和斜板沉淀池，第一反应池连接废水进水管，斜板沉淀池底部通过带有污泥回流泵的出管与管道混合器连接，管道混合器连接第四反应池，污泥回流泵靠近斜板沉淀池一侧的斜板沉淀池底部出管连接带有污泥输送泵的污泥输送管。本实用新型的优点：双氧水去除剂节约药剂成本，去除速度快，效率高；氯化镁+重捕剂联合去除络合铜，工艺简单，投资成本低；回流污泥中添加液碱，加快污泥沉降速度，提高斜板沉淀池表面负荷，减少沉淀池占地面积；污泥体积大幅减少，减少脱水机处理规模，不需设置污泥浓缩池。
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“半导体行业低浓度含铜废水达标排放及高效沉降成套装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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