本发明涉及一种用于半导体晶片抛光药液的组合物，包括次氯酸
锂、碳酸氢盐和硅溶胶。本发明还涉及了一种包括所述组合物的抛光药液以及制备方法。本发明提供的抛光药液可以针对（111）特殊角度的半导体晶片，以达到光滑均匀，没有腐蚀坑、孔洞等缺陷的优异晶片表面。本发明提供的抛光药液可作为通用性抛光药液，而且原料价廉易得、降低了药液成本，具有广阔的市场应用价值。
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“用于半导体晶片的抛光药液组合物、抛光药液及制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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