一种基于光刻和化学机械抛光的薄膜微光学结构的制备方法，包括在薄膜表面镀金属层、光刻选择性去除金属膜、化学机械抛光以及化学腐蚀等步骤。本发明方法制备的片上微光学器件具有极高的表面光洁度，极低的光学损耗。该方法适用于各种片上薄膜(包含但不限于铌酸
锂单晶薄膜、石英薄膜、硅薄膜、二氧化硅薄膜、金刚石薄膜等)上制备高品质的微光学结构(包含但不限于微盘腔、微环腔、光波导及其耦合器件)。
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“基于光刻和化学机械抛光的薄膜微光学结构的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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