本发明公开了一种用于制备高抗拉
锂电
铜箔的
电解液，包含主电解液和添加剂，主电解液包含硫酸铜、硫酸和氯离子，添加剂包含A剂、B剂、C剂，A剂为含硫杂环化合物，B剂为含氮天然或合成高分子化合物，C剂为嵌段聚醚类化合物。本发明的电解液通过采用特定的添加剂及其配比优化，可以有效控制晶粒的生长，减少铜箔缺陷，获得致密的铜箔，以此制备的铜箔，具有高抗拉强度、高延伸率。
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“用于制备高抗拉锂电铜箔的电解液” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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