本发明公开了一种适用于普抗8μm
锂电
铜箔延伸率稳定提升的添加剂及其使用方法，添加剂包括苯并咪唑二硫代甲酸丙磺酸钠、邻苯甲酰磺酰亚胺钠、健那绿B、聚乙二醇、盐酸；使用方法为将添加剂加入硫酸铜
电解液中，使电解液中铜离子90‑110 g/L、硫酸根100‑120 g/L、苯并咪唑二硫代甲酸丙磺酸钠1‑10 ppm、邻苯甲酰磺酰亚胺钠1‑15 ppm、健那绿B 10‑50 ppm、聚乙二醇1‑20 ppm、氯离子15‑30 ppm。该添加剂及其使用方法所生产的普抗8μm锂电铜箔稳定抗拉强度稳定、表面粗糙度低、厚度均匀，可稳定提升的延伸率，常温抗拉强度340 MPa~350 MPa，延伸率≥10%。
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“适用于普抗8μm锂电铜箔延伸率稳定提升的添加剂及其使用方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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