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用于控制锂均匀度的改善的方法

1174   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-18 21:45:06
本发明提供一种在基底上提供均匀涂层的方法和装置。本发明的一个方面涉及一种通过将一定量的反应性气体引入溅射腔室的特定区域而选择性地控制在溅射过程中的金属或锂的沉积均匀度和/或沉积速率的方法。该方法可用于平面靶和转动靶。
声明:
“用于控制锂均匀度的改善的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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