本发明公开了一种用于
锂‑硫电池的共轭微孔聚合物改性
隔膜的制备方法，是先以1,3,5‑三乙炔基苯和2‑氨基3,5‑二溴吡啶为单体，四（三苯基膦）钯(0)和碘化亚
铜共为催化剂，三乙胺和二甲苯的混合溶液为介质形成反应体系，将商业
锂电池隔膜于该反应体系中并置于填充惰性气体的密闭容器中，在65~90°C反应24~72 h，在商业
锂电池隔膜表面原位生长共轭微孔聚合物，得到共轭微孔聚合物改性隔膜。本发明通Sonogashira‑Hagihara反应在商业锂电池隔膜表面原位生长富有含氮官能团的共轭微孔聚合物，可有效抑制聚硫化物穿梭，显著提高了锂‑硫电池的容量、活性物质利用率、循环稳定性和倍率性能。
声明：
“用于锂-硫电池的共轭微孔聚合物改性隔膜的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1250
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
