本发明公开了一种可用在核聚变实验装置中的
锂硅复合射频壁处理工艺,主要是为高性能等离子体物理实验创造优化的壁条件。本发明的特征在于根据装置壁涂层成分与结构设计理论,使用等离子体辅助化学气相沉积PACVD方法,在HT-7超导托卡马克射频硅化过程中通入锂蒸汽,实现原位射频锂硅复合壁处理,该种功能涂层不仅具有锂化的高效能,而且能将一般锂化几炮的使用寿命提高到几百炮以上,从而为高功率、长脉冲等离子体物理实验创造很好的壁条件。同时这种壁处理可在纵场线圈不退磁的情况下进行,是更适合于今后国际热核聚变实验堆ITER及未来聚变反应堆的一种壁处理模式。
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来源：北方有色网
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