本实用新型分流式CVD沉积室涉及
复合材料制备领域，具体涉及化学气相沉积，特别涉及一种分流式CVD沉积室，包括中空的沉积室筒体和进气室，所述进气室内设置有一进气管，沉积室筒体的一端与进气室相连，另一端上设置有一沉积室盖，所述沉积室盖上设置有一出气口，所述分气板上均布有若干个进气孔，所述分气板上还设置有一引气装置，气体提升装置设置在分气板上，且通过分气板上的进气孔与进气室相连；气体分布装置位于气体提升装置上方。本实用新型结构简单，沉积效率高、制品增密快，利用气体提升装置和气体分布装置将进气管中的气流提升，有效解决因高度不同而带来的制品增密情况不均匀的问题，且生产效率高，降低生产成本。
声明：
“分流式CVD沉积室” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
968
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
